Дженсен Хуанг: Китай до 2030 року розробить технології літографії для виробництва чипів

Автор ·

Генеральний директор NVIDIA Дженсен Хуанг вважає, що Китай зможе розробити технології літографічного виробництва чипів до 2030 року. У подкасті The All-In він зазначив, що наразі країна не має інструментів, подібних до ASML, але впевнений у їхньому прогресі.

Оптимізм Хуанга щодо технологій Китаю

За словами Хуанга, Китай демонструє значний потенціал у виробництві, і він вважає, що до 2030 року країна зможе досягти необхідних технологій. Він зазначив, що прогрес у літографії — це лише питання часу, і що два-три роки — це незначний термін.

Стан літографії в Китаї

  • Китайський виробник Shanghai Micro Electronics Equipment може виробляти 193-нм ArF, що підходить для 90-нм техпроцесу.
  • Компанія розробила 28-нм сканер ArF, але немає доказів його використання у серійному виробництві.
  • Китай відстає у технології екстремального ультрафіолетового випромінювання (EUV), незважаючи на розробку лазерного джерела плазми для генерації світла з довжиною хвилі 13,5 нм.

Таким чином, хоча Хуанг оптимістично оцінює розвиток Китаю, деякі експерти вважають його прогнози щодо літографії занадто оптимістичними.

Джерело: Mezha.Media (https://mezha.ua/news/nvidia-jensen-huang-china-euv-315268/)